《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志是部級期刊。
《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志基本信息
《電子工業(yè)專用設(shè)備》于1971年創(chuàng)辦，全刊信息多卻有條有理，堅持打造交流思想和經(jīng)驗共享的主流平臺，國內(nèi)刊號為：62-1077/TN，創(chuàng)刊多年來受到許多讀者的支持和喜愛。
《電子工業(yè)專用設(shè)備》是目前國內(nèi)電子專用設(shè)備領(lǐng)域唯一獲正規(guī)出版發(fā)行的權(quán)威專業(yè)刊物，多年來為推動我國電子專用設(shè)備的發(fā)展發(fā)揮了極其重要的作用。
雜志主要發(fā)文機構(gòu)有哪些？發(fā)文量分別是多少？
| 學者姓名 | 發(fā)文量 | 主要研究主題 |
| 童志義 | 43 | 光學光刻；集成電路；光刻；硅；CMP |
| 鮮飛 | 42 | 表面貼裝技術(shù)；SMT；貼片機；波峰焊；SMT生產(chǎn) |
| 翁壽松 | 30 | 半導體產(chǎn)業(yè)；半導體；半導體設(shè)備；銅互連；應(yīng)變... |
| 柳濱 | 21 | CMP；化學機械拋光；化學機械平坦化；拋光液；... |
| 陳大鵬 | 21 | 半導體器件；刻蝕；MEMS；溝道；焦平面陣列 |
| 顏景平 | 19 | 機器人；冗余度機器人；料器；球磨機；回轉(zhuǎn)誤差 |
| 周國安 | 18 | CMP；化學機械平坦化；化學機械拋光；拋光液；... |
| 葉甜春 | 17 | X射線光刻；溝道；半導體器件；版圖；襯底 |
| 楊洪星 | 17 | 單晶片；鍺；拋光片；晶片；表面粗糙度 |
| 譚立杰 | 17 | 晶圓；直線電機；激光加工；伺服控制；ETHERCAT |
| 機構(gòu)名稱 | 發(fā)文量 | 主要研究主題 |
| 中國電子科技集團公司... | 646 | 半導體；光刻；晶圓；電機；拋光 |
| 中國電子科技集團公司... | 229 | 真空；電池；低溫共燒陶瓷；太陽能... |
| 中國電子科技集團公司... | 168 | 電池；太陽能電池；太陽能；均勻性... |
| 中國電子科技集團公司... | 118 | 單晶；硅單晶；硅片；晶片；區(qū)熔 |
| 電子工業(yè)部 | 115 | 半導體；光刻；曝光機；切片；切片... |
| 北京中電科電子裝備有... | 92 | 晶圓；劃片；劃片機；鍵合；封裝 |
| 中華人民共和國工業(yè)和... | 75 | 光刻；電路；電子專用設(shè)備；集成電... |
| 中國電子科技集團公司 | 68 | 電路；集成電路；化學機械拋光；機... |
| 中國電子科技集團第十... | 66 | 光刻；刻蝕；激光；光刻機；投影光... |
| 中國科學院 | 54 | 光刻；光刻機；電路；半導體；電子... |
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